分散劑對硅晶片研磨的影響有哪些？

    硅片用的磨料主要是碳化硅，因為它的莫氏硬度是9.5，僅次于金剛石，而且導熱性好，抗氧化能力高。目前，懸浮和分散性的研磨液體能源不能完全滿(mǎn)足生產(chǎn)需要。如果性能的劣質(zhì)研磨液在研磨工藝中造成嚴重的芯片磨損和缺陷，將對后續加工工序產(chǎn)生非常不利的影響，甚至造成晶圓損壞，影響生產(chǎn)效率，造成重要損失。

    好的研磨溶液應該有好的懸浮，均勻，分散和適中的粘度PH值如果研磨液體的性能不好，磨料與磨盤(pán)的接觸不會(huì )是均勻，會(huì )導致應力不均勻，出現碎片和劃痕，嚴重影響硅片的平整度。

    為了獲得穩定的分散研磨溶液，需要將體系中的電位絕對值控制在較高的位置。分散劑和活性劑對碳化硅懸浮性能的影響。分散劑的作用是降低分散體系中各種粒子的聚集程度。在碳化硅懸浮分散體系的制備中加入分散劑，可以提高體系的分散懸浮性能，保持體系相對穩定。

    分散劑效應對碳化硅磨料分散的作用機理是，它吸附在顆粒，表面，從而增加了粒子的表面電位，進(jìn)一步增加了相互排斥。顆粒表面必須達到一定的吸附量才能使磨料體系穩定存在，所以分散劑的加入有一個(gè)佳值，過(guò)多的貨物會(huì )影響懸浮的分散性，只有通過(guò)選擇合適的分散劑將研磨的分散性和懸浮溶液的穩定性調整到良好狀態(tài)，才能發(fā)揮溶液的良好效果。

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